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掩模材料与新颖的衬底方案关键问题及新的良机
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
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极紫外光刻
45nm技术节点
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掩模材料
掩模制作
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45 nm node technology
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